| 분류 | 표면기술 |
|---|---|
| 기술명 | 상압플라즈마 표면처리 기술 |
| 연구자 | 권정대 |
| 특허출원번호 | |
| 개요 | ● 0.1~1기압의 압력에서 고밀도 플라즈마를 발생하여 빠른 속도로 에칭, 기능성 박막 증착 등을
처리할 수 있는 기술 및 장비 ● 태양전지용 Si 박막 소재의 기존 기술 한계를 뛰어넘는 신개념의 고품위 실리콘 반도체 박막 합성법 원천기술 개발 ● 반사방지막 내구성을 향상시키기 위한 보호막 형성 기술 |
| 첨부파일 |  S-11_상압플라즈마_표면처리_기술.pdf (1.0M) [37] DATE : 2016-12-26 09:52:21 |
