| 분류 | 표면기술 |
|---|---|
| 기술명 | 열선화학기상증착 응용 Si계 박막 고속증착 기술 |
| 연구자 | 김도근 |
| 특허출원번호 | 57311 |
| 개요 | •PE-HWCVD(Plasma Enhanced Hot-Wire Chemical Vapor Deposition) 장치 및 공정 기술
•Si 박막태양전지용 비정질/결정질 Si 박막 합성 및 공정 기술 •유기소자용 저손상 투명 박막 봉지 기술 •다층박막 형성을 통한 고수명 투명 박막 봉지 기술 •Si 박막태양전지용 Si 박막 제조 •유기소자용 투명 박막 봉지 |
| 첨부파일 |  54.pdf (344.0K) [34] DATE : 2014-02-13 11:56:43 |
