| 분류 | 표면기술 |
|---|---|
| 기술명 | 대기압 플라즈마 화학증착법을 이용한 Si 고속 증착기술 |
| 연구자 | 남기석 |
| 특허출원번호 | |
| 개요 | •700 Torr 이하 높은 압력에서의 Si 고속 증착 기술
•Radical에 의한 low ion damage Si 박막 증착 기술 •0~60%의 결정화도 제어 가능 Si 박막 증착기술 •Si 박막태양전지 제조 •투습 및 절연 보호 박막 •산화물계 투명전극 박막 |
| 첨부파일 |  58.pdf (328.8K) [39] DATE : 2014-02-13 11:58:27 |
