연구과제명 |
연성 LCD 소자용 투명 전도성 기판 형성 기술 개발 |
연구책임자 |
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연구기간 |
2008년 01월 ~ 2008년 12월 |
개발년도 |
2008년 |
연구비 |
0원 |
기술개발 내용, 특징 |
○ 디스플레이 최강국인 우리나라의 경우 차세대 제품에서도 세계 기술을 선도하기 위해서는 Flexible 기판 상에 고품위 투명 전도성 기판 형성 기술 및 투습도를 제어할 수 있는 박막 제조 기술 개발이 시급한 상태임.
○ 코팅폭 500mm 이상의 대면적 투명 전도성 박막 제조 기술 개발
․ 코팅 물질 : ITO/IZO ․ 전기 전도도 : 40Ω/□ @ 150nm
․ 투과도 : 87%이상
○ 투습도 제어 유무기 박막 제조 기술 개발
․ 투습도 : 1 x 10-3g/m2day ․ 코팅 물질 : SiOx |
기대효과, 향후계획 |
○ 세계 수준의 Flexible 디스플레이용 기판 제조 기술 확보
○ Flexible LCD 소자 제조를 위한 기판으로 활용될 것으로 예상되며 이 분야의 세계 기술을 선도할 수 있을 것으로 예상됨
○ 수입대체 : 300억원/년(2010년기준) |
시제품 이미지 |
투명 전도성 박막 : 투과도 87% ITO 박막 : 두께 150nm
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