| 분류 | 표면기술 |
|---|---|
| 기술명 | 고품위 실리콘 박막소재 공정 및 응용 기술 |
| 연구자 | 김동호 |
| 특허출원번호 | |
| 개요 | - 태양전지용 Si박막소재의 기존 기술 한계를 뛰어넘는 신개념의 고품위 실리콘 반도체박막 합성법 원천기술을 개발
- 결정성 제어와 증착속도 요구사항을 동시에 만족시킬 수 있는 대기압 플라즈마 CVD공정 기술과 장비를 개발 - 신개념 저가형 Si박막 태양전지 (도핑프리형) 제조 기술을 개발 - 박막태양전지용 핵심소재에 대한 평가기반을 구축, 박막 태양전지 소재 연구의 Hub 마련 대기압 플라즈마 CVD기술 - 높은 공정압력(100torr~대기압) 플라즈마 공정 - 플라즈마 밀도 및 이온 에너지 조정 용이 - 고속 증착 가능 (100nm/sec이상, 고정형) - 저가형 R2R 공정 구현 도핑프리 Si박막태양전지 기술 - 인라인 공정으로 인한 대량생산 체계 구축 가능 - 초기 설비투자비 대폭 감소 - p/n 도핑용 유해가스(B2H6/PH3) 미사용 친환경 공정 기술이 적용되는 제품 - Si박막 태양전지 및 광센서, 스마트유리창호 - Si함침된 기능성 금속박판소재 - 반사방지/내지문 표면처리된 고분자필름 기술이 적용되는 서비스 - 에너지환경문제 해결 - 주택, 고층빌딩 등의 제로에너지 건축물 실현 |
| 첨부파일 |  096__표면_고품위_실리콘_박막소재_공정_및_응용_기술.pdf (475.1K) [48] DATE : 2016-06-02 12:46:14 |
