분류
표면기술
기술명
상압플라즈마 표면처리 기술
연구자
권정대
특허출원번호
개요
● 0.1~1기압의 압력에서 고밀도 플라즈마를 발생하여 빠른 속도로 에칭, 기능성 박막 증착 등을
처리할 수 있는 기술 및 장비
● 태양전지용 Si 박막 소재의 기존 기술 한계를 뛰어넘는 신개념의 고품위 실리콘 반도체 박막 합성법 원천기술 개발
● 반사방지막 내구성을 향상시키기 위한 보호막 형성 기술
첨부파일
S-11_상압플라즈마_표면처리_기술.pdf (1.0M)
[37]
DATE : 2016-12-26 09:52:21