| 분류 | 표면기술 |
|---|---|
| 기술명 | 상압 플라즈마 표면 처리 기술 |
| 연구자 | 권정대 |
| 특허출원번호 | KR10-1004061 |
| 개요 | 0.1~1기압의 압력에서 고밀도 플라즈마를 발생하여 빠른 속도로 에칭, 기능성 박막 증착, 등을
처리할 수 있는 기술 및 장비 태양전지용 Si 박막 소재의 기존 기술 한계를 뛰어넘는 신개념의 고품위 실리콘 반도체 박막 합성법 원천기술 개발 반사방지막 내구성을 향상시키기 위한 보호막 형성 기술 |
| 첨부파일 |  099_권정대_상압_플라즈마_표면_처리_기술.jpg (1,000.7K) [29] DATE : 2018-02-14 09:54:39 |
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