| 분류 | 표면기술 |
|---|---|
| 기술명 | 광폭 표면처리용 선형 이온빔소스 및 공정 기술 |
| 연구자 | 김도근 |
| 특허출원번호 | KR10-1447779 |
| 개요 | 경쟁 기술 대비 우수성: 처리속도 1.5 배 이상
선형 이온빔 발생기 설계/제작 기술 확보를 통한 대면적 고속 표면처리용 선형 이온빔 소스 개발 및 P社 파일럿 라인에서 성능 검증 선형 이온빔 설계 기술 이전 등 국내외 표면처리용 이온소스 기술 향상 기여 |
| 첨부파일 |  082+김도근+광폭+표면처리용+선형+이온빔소스+및+공정+기술+개발.jpg (1.1M) [27] DATE : 2018-02-14 11:18:59 |
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