| 연구과제명 | 마이크로 디바이스용 극저마찰 탄소보호막 개발 | |||||||||||
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| 연구책임자 |
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| 연구기간 | 2002년 01월 ~ 2004년 12월 | |||||||||||
| 개발년도 | 2004년 | |||||||||||
| 연구비 | 350,000,000원 | |||||||||||
| 기술개발 내용, 특징 | ○ 인가하중 5g 이하에서 극저마찰력 측정 장치 개발
○ 일반 대기중에서 마찰계수 0.01이하의 탄소박막 개발 ○ 인가하중 5g에서 백만회 왕복운동 후 마모깊이 6nm이하 ○ 접촉각 85° 이상의 소수성 보유 |
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| 기대효과, 향후계획 | ○ 마이크로 디바이스와 같이 저마찰, 내마모, 소수성이
요구되는 표면에 적용 가능 ○ 3nm이하의 균일한 탄소막 합성 공정 개발 ○ 초박막에서의 극저마찰, 내마모, 소수성 동시 보유 공정 개발 ○ 나노패턴닝 몰드의 내구성 향상 및 이형재료로 활용 가능 ○ RF-MEMS 접촉재료, 초미세금형, 사출성형금형 등에 적용 연구 |
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| 시제품 이미지 |
 극저마찰력을 측정하기 위해 고안된 Oscillatory Tribometer  인가하중에 따른 마찰계수의 거동 (1g~5g의 범위에서 마찰계수 0.01이하를 보이고 있다) |
