| 연구과제명 | 플라즈마 응용 고문서 보존용 표면 처리 기술 | |||||||||||
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| 연구책임자 |
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| 연구기간 | 2004년 12월 ~ 2006년 05월 | |||||||||||
| 개발년도 | 2006년 | |||||||||||
| 연구비 | 350,000,000원 | |||||||||||
| 기술개발 내용, 특징 | • PPX(Poly-p-xylylene) 코팅에 대한 원천기술 개발
- 본 사업에서는 벨라루스의 MPRI(Metal-Polmer Research Institute)에서 개발된 플라즈마 응용 PPX 코팅 기술을 도입하여 고문서 처리 공정 기술을 상용화하였음 - PPX 코팅층 형성 기술 개발 (코팅 두께 : 12㎛) - 코팅 속도 : 3-8nm/s - PPX 제조를 위한 플라즈마 전원 시스템 제조 기술 - PPX 코팅 응용 분야 (예: 우주항공, 센서 보호막 등) • 상용화 기술 - PPX 제조용 플라즈마 코팅 시스템 설계 및 제작 기술 - 고속 PPX 코팅 기술 - PPX 코팅층 특성평가 기술 |
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| 기대효과, 향후계획 | • Flexible 모재 상에 PPX 코팅 기술 국산화
• 고문서 처리용 플라즈마 표면 처리 장치 실용화 • Flexible PCB용 보호 피막 코팅 장치 실용화 • 정밀 센서용 보호피막 코팅 장치 실용화 |
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| 시제품 이미지 |
 본 연구에서 개발한 PPX 코팅 장치 |
