| 연구과제명 | 연성 LCD 소자용 투명 전도성 기판 형성 기술 개발 | |||||||||||
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| 연구책임자 |
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| 연구기간 | 2008년 01월 ~ 2008년 12월 | |||||||||||
| 개발년도 | 2008년 | |||||||||||
| 연구비 | 0원 | |||||||||||
| 기술개발 내용, 특징 | ○ 디스플레이 최강국인 우리나라의 경우 차세대 제품에서도 세계 기술을 선도하기 위해서는 Flexible 기판 상에 고품위 투명 전도성 기판 형성 기술 및 투습도를 제어할 수 있는 박막 제조 기술 개발이 시급한 상태임.
○ 코팅폭 500mm 이상의 대면적 투명 전도성 박막 제조 기술 개발 ․ 코팅 물질 : ITO/IZO ․ 전기 전도도 : 40Ω/□ @ 150nm ․ 투과도 : 87%이상 ○ 투습도 제어 유무기 박막 제조 기술 개발 ․ 투습도 : 1 x 10-3g/m2day ․ 코팅 물질 : SiOx |
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| 기대효과, 향후계획 | ○ 세계 수준의 Flexible 디스플레이용 기판 제조 기술 확보
○ Flexible LCD 소자 제조를 위한 기판으로 활용될 것으로 예상되며 이 분야의 세계 기술을 선도할 수 있을 것으로 예상됨 ○ 수입대체 : 300억원/년(2010년기준) |
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| 시제품 이미지 |
 투명 전도성 박막 : 투과도 87%  ITO 박막 : 두께 150nm |
