| 특허명 | 에어로졸 데포지션을 위한 고효율 분말분산장치 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2006-0136703 |
| 출원일 | 2006-12-28 |
| 등록번호 | 0818188 |
| 등록일 | 2008-03-25 |
| 대표발명자 | 미래기술연구센터 박동수 |
| 초록 | 본 발명은 에어로졸 챔버의 운동을 통해 에어로졸 데포지션을 수행하는 분말 분산장치에 관한 발명으로서, 에어로졸 챔버의 단순한 운동에 의한 분말의 분산보다 에어로졸 챔버를 상하로 흔들면서 동시에 원운동을 시킴으로써 분말의 분산이 보다 효율적으로 이루어지게 한다. 본 발명은 에어로졸 챔버 내의 분말 가운데 1차 입자들이나 소형의 응집체 입자들을 공중에 부유시킴으로써 입자들을 분산시키고 이들 가벼운 입자들이 가스를 통하여 이동할 때 불필요한 저항을 최소화하여 기판에 분사된 후 코팅층을 형성하는데 기여하는 분말 입자들의 수를 최대화함으로써 사용 분말의 양을 최소화하고 코팅 효율을 높여서 코팅 속도를 향상시키는 방법을 제공한다. 에어로졸 데포지션, 분말 분산 |
| 발명명칭 | 에어로졸 데포지션을 위한 고효율 분말 분산장치 |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
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| 첨부파일 |
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