| 특허명 | 거친 표면을 가진 아나타제상의 이산화티탄 광촉매 막 및 그 제조방법 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2008-0076019 |
| 출원일 | 2008-08-04 |
| 등록번호 | 0897573 |
| 등록일 | 2009-05-07 |
| 대표발명자 | 미래기술연구센터 박동수 |
| 초록 | 실시예에 따른 광촉매 막은 기판; 및 요철표면을 가지며 상기 기판상에 형성된 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층;을 포함하며, 상기 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층은 평균 표면조도(Ra)가 200nm 내지 1000nm인 것을 특징으로 한다. 광촉매 막, 코팅, 정화 |
| 발명명칭 | 거친 표면을 가진 아나타제상의 이산화티탄 광촉매 막 및그 제조방법 |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
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