보유특허

특허명 에어로졸 증착법을 이용하여 제조된 치밀한 상온 전도성 후막 및 이의 제조방법
출원등록국 한국
출원번호 2007-0130938
출원일 2007-12-14
등록번호 0941472
등록일 2010-02-02
대표발명자 미래기술연구센터 최종진
초록 본 발명은 에어로졸 증착법을 이용한 치밀한 상온 전도성 산화물 후막 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 전도성 산화물 원료 분말을 밀링으로 혼합한 후 하소(calcining)하여 제조된 전도성 산화물을 재밀링하여 전도성 산화물을 얻고, 이를 기판상에 에어로졸 증착법으로 증착시켜 전도성 산화물 후막을 제조하는 방법 및 상기 제조방법에 의한 전도성 산화물 후막에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 에어로졸 증착법에 의하여 매우 치밀한 전도성 산화물층을 얻을 수 있고, 상온 공정으로 인해 상변화를 방지하여 뛰어난 전기 전도 특성을 가지며, 금속 기판에 증착시킬 경우 금속 기판의 산화 및 내부식 방지에 우수한 효과를 가지므로 금속 기판상에 강유전 후막 증착시 금속 기판의 산화 방지 및 확산 방지막으로 유용하게 사용될 수 있으며, 또한 세라믹산화물의 뛰어난 내부식성을 이용하여 고체고분자 연료전지(PEMFC)의 금속재료 접속자의 장기사용안정성을 높이는 데에 유용하게 사용할 수 있다. 에어로졸 증착법, 상온 전도성 산화물, 내산화성, 내부식성
발명명칭 에어로졸 증착법을 이용하여 제조된 치밀한 상온 전도성후막 및 이의 제조방법
출원인 한국기계연구원
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첨부파일 키프리스 검색