| 초록 |
본 발명은 저온 열처리공정을 이용한 다공성 세라믹 후막의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 세라믹 분말과 유기물 기공 형성체 분말을 분말혼합하는 단계(단계 1); 상기 단계 1의 혼합분말을 상온진공분말분사법으로 모재 일측에 증착하는 단계(단계 2); 및 상기 증착막에서 열처리공정으로 유기물 기공 형성체를 제거하여 다공성 세라믹 후막을 제조하는 단계(단계 3)를 포함하는 저온 열처리공정을 이용한 다공성 세라믹 후막의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 다공성 세라믹 후막의 제조방법은 상온진공분말분사법을 이용하여 코팅막을 제조하고, 저온 열처리를 통해 모재와의 반응에 영향을 미치지 않는 다공성 막을 형성할 수 있으며, 상기 방법으로 제조된 다공성 세라믹 후막은 나노크기의 기공 및 입자분포를 가지므로 전극의 활성을 증가시켜 고체연료전지, 촉매, 염료감응태양전지 및 가스센서 등의 다공성 세라믹 후막에 유용하게 사용할 수 있다. 세라믹 분말, 유기물 기공 형성체 분말, 상온진공분말분사법, 고체연료전지 |
