| 특허명 | 이온빔 소스 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2012-0145133 |
| 출원일 | 2012-12-13 |
| 등록번호 | 1353773 |
| 등록일 | 2014-01-14 |
| 대표발명자 | 플라즈마코팅연구실 김도근 |
| 초록 | 이온빔 소스는 상면에 방전 공간을 가지며, 내부에 방전 공간로 가스를 공급하기 위한 가스 공급홀을 갖는 몸체와, 몸체의 상면에 방전 공간을 노출하도록 구비되는 음극과, 방전 공간의 내부에 음극과 이격되도록 구비되며, 음극과의 사이에 전기장을 발생시켜 가스를 이온화하는 양극 및 몸체에 고정되어 양극을 지지하며, 몸체와 양극이 전기적으로 연결되는 것을 방지하기 위해 전도성 물질의 코팅을 방지할 수 있는 단차를 갖는 지지부재를 포함한다. 지지부재에 전도성 물질이 코팅되는 것을 방지하므로, 몸체와 양극의 전기적 연결을 방지할 수 있다. |
| 발명명칭 | 이온빔 소스 |
| 출원인 | 한국기계연구원|포스코홀딩스 주식회사 |
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