| 특허명 | 나노 패턴의 형성 방법 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2012-0152627 |
| 출원일 | 2012-12-24 |
| 등록번호 | 1341548 |
| 등록일 | 2013-12-09 |
| 대표발명자 | 기능세라믹연구실 최준환 |
| 초록 | 본 발명은 별도의 나노 마스크를 이용하지 않는 나노 구조체를 균일하게 형성 방법을 구현하기 위하여, 기판 상에 도파민(dopamine)을 포함하는 층을 형성하는 단계, 상기 도파민을 포함하는 층 상에 비드(bead)들을 포함하는 분산용액을 코팅하여 비드층을 형성하는 단계 및 상기 비드층의 토폴로지를 이용하여 상기 기판을 식각함으로써, 상기 기판에 나노 돌기 패턴을 형성하는 단계를 포함하는, 나노 패턴의 형성 방법을 제공한다. |
| 발명명칭 | 나노 패턴의 형성 방법 |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
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| 첨부파일 |
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