| 특허명 | 높은 비투자율을 갖는 가공물의 전자기성형 방법 및 장치 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2013-0058774 |
| 출원일 | 2013-05-24 |
| 등록번호 | 1493421 |
| 등록일 | 2015-02-09 |
| 대표발명자 | 변형제어연구실 김대용 |
| 초록 | 본 발명은 높은 비투자율을 갖는 가공물의 전자기성형 방법 및 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 비투자율이 높아 유도전류의 발생이 어려운 재질의 가공물에 대해서도 전자기성형을 할 수 있도록 한 것이다. 특히, 본 발명은 비투자율이 높은 가공물에 전류를 직접 공급하여 자기장발생모듈에 유도전류를 발생시키고, 이러한 유도전류에 의해 자기장발생모듈에서 자기장을 발생시켜 가공물을 성형함으로써, 자기장발생모듈에 대한 기계적, 열적 손상을 최소화할 수 있다. 또한, 자기장발생모듈에 대한 기계적, 열적 손상을 최소화함으로써, 전자기성형 장치에 대한 설계의 용이성을 향상시키고, 다양한 제품 등에 쉽게 적용 및 응용할 수 있으며, 제품의 수명을 향상시킬 수 있다. 따라서, 전자기성형 분야, 특히 평판형 가공물의 전자기성형 분야는 물론 이와 유사 내지 연관된 분야에서 신뢰성 및 경쟁력을 향상시킬 수 있다. |
| 발명명칭 | 높은 비투자율을 갖는 가공물의 전자기성형 방법 및 장치 |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
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| 첨부파일 |
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