| 특허명 | 캐필러리부가 구비된 판상형 전극을 이용한 롤투롤 플라즈마 처리 시스템 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2013-0066298 |
| 출원일 | 2013-06-11 |
| 등록번호 | 1439926 |
| 등록일 | 2014-09-03 |
| 대표발명자 | 표면기술연구본부 남기석 |
| 초록 | 본 발명은 고밀도 플라즈마 발생장치 및 이를 이용한 기판의 플라즈마 처리시스템 및 처리방법에 관한 것으로서, 외주면에 유전체가 형성된 원통형의 기판히터를 구비하는 서셉터; 복수의 캐필러리부들을 가지는 도전성 몸체를 포함하고, 상기 기판히터의 원주방향을 따라 상기 서셉터와 이격되어 배열되는, 적어도 하나 이상의 판상형 전극; 및 유연기판을, 상기 판상형 전극과는 이격되고 상기 서셉터와는 접하도록, 롤투롤 방식으로 감을 수 있는, 한 쌍의 롤들;을 포함하는, 캐필러리부가 구비된 판상형 전극을 이용한 롤투롤 플라즈마 처리 시스템을 제공한다. |
| 발명명칭 | 캐필러리부가 구비된 판상형 전극을 이용한 롤투롤 플라즈마 처리 시스템 |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
| 도면 | 다운로드 |
| 첨부파일 |
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