| 초록 |
본 발명은 내부에 발열체가 매립 설치되어 있으며 Ni-Fe-Co 합금으로 이루어진 금속 모재; 상기 금속 모재의 일면에 형성된 제1 세라믹층; 및 상기 금속 모재의 타측면 및 둘레에 형성된 제2 세라믹층을 포함하는 우수한 내열충격성과 내식성을 가지는 반도체 제조공정용 가열장치의 히팅 플레이트 및 이를 포함하는 반도체 제조공정용 가열장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 반도체 제조공정용 히팅 플레이트는 Ni-Fe-Co 합금으로 이루어진 금속 모재에 가열과 냉각이 반복되는 열충격이 가해져도 AlN 등으로 이루어진 세라믹층과의 정합성을 유지하는 우수한 내열충격성을 나타내며, 금속 모재의 표면 전체에 걸쳐 세라믹층을 구비함으로써 내화학성, 내마모성 등이 우수하여 금속 모재의 손상을 방지할 수 있다. 따라서, 상기 히팅 플레이트를 포함하는 반도체 제조공정용 가열장치는 식각공정, 증착공정 등을 수행함에 있어서 안정적으로 기판 가열을 수행할 수 있으며, 종래 질화알루미늄(AlN)를 주성분으로 하여 이루어진 반도체 제조공정용 가열 장치의 히팅 플레이트에 비해 경제적이고, 세라믹층이 AlN과 같은 고열전도성 소재로 이루어질 경우 우수한 온도 균일성을 달성할 수 있으며, 작은 전력으로 기판을 원하는 온도로 신속히 가열할 수 있다. |
