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특허명 후막 형성용 질화물 분말, 이를 이용한 질화물 후막 제조방법 및 이에 의해 제조된 후막
출원등록국 한국
출원번호 2015-0085990
출원일 2015-06-17
등록번호 1735822
등록일 2017-05-08
대표발명자 기능세라믹연구실 한병동
요약서
첨부파일