| 특허명 | 대상물 가공 장치 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2016-0018198 |
| 출원일 | 2016-02-17 |
| 등록번호 | 1698717 |
| 등록일 | 2017-01-16 |
| 대표발명자 | 플라즈마공정연구실 김도근 |
| 초록 | 대상물 가공 장치는 진공 챔버와, 막을 형성하기 위한 대상물을 지지하는 지지부재와, 막을 형성하기 위한 물질을 포함하는 타겟 및 타겟과 대상물을 향해 이온빔을 각각 조사하며, 대상물에 막을 형성하기 위해 타겟의 물질이 대상물을 향하도록 타겟의 물질을 활성화하고, 막이 형성되기 전에 대상물을 전처리하거나 막이 형성된 후 대상물을 후처리하는 이온 빔 소스를 포함한다. 대상물 가공 장치는 막 형성 및 전처리 또는 후처리를 동시에 수행할 수 있으므로, 대상물 처리 공정의 효율을 향상시킬 수 있다. |
| 발명명칭 | 대상물 가공 장치 |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
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| 첨부파일 |
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