| 특허명 | 이온빔소스 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2016-0096389 |
| 출원일 | 2016-07-28 |
| 등록번호 | 2075157 |
| 등록일 | 2020-02-03 |
| 대표발명자 | 표면공정연구실 김종국 |
| 초록 | 이온빔 소스는 양극 및 방전 공간을 형성하기 위해 상기 양극의 상방에 제1 간격만큼 이격되도록 제1 음극 및 제2 음극이 배치되고, 상기 제1 음극 및 제2 음극은 상기 방전 공간에서 형성된 이온빔을 인출하기 위해 서로 제2 간격만큼 이격되는 음극을 포함한다. 상기 제1 음극 및 제2 음극은 각각, 상기 방전 공간을 확장하기 위해 상기 양극과 마주보는 저면과 상기 제1 음극과 상기 제2 음극이 서로 마주보는 측면이 만나는 모서리에 제1 경사부를 갖는다. 따라서, 상기 이온빔 소스의 방전 공간을 크게 하여 인출되는 이온빔의 양을 증가시킬 수 있다. |
| 발명명칭 | 이온빔 소스 |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
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| 첨부파일 |
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