특허명 | 방열 기판 및 이의 제조방법 |
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출원등록국 | 한국 |
출원번호 | 2017-0093253 |
출원일 | 2017-07-24 |
등록번호 | 2071264 |
등록일 | 2020-01-22 |
대표발명자 | 전기화학연구실 임재홍 |
초록 | 본 발명은 질화규소(Si 3 N 4 ) 기판; 상기 질화규소(Si 3 N 4 ) 기판 상에 형성되는 Pd-TiO 2 층; 및 상기 Pd-TiO 2 층 상에 형성되는 회로 패턴을 포함하는 방열 기판 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 회로패턴의 미세화가 가능하고, 이와 동시에 고방열화가 가능한 방열 기판을 제공할 수 있다. |
발명명칭 | 방열 기판 및 이의 제조방법 |
출원인 | 한국기계연구원 |
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