| 특허명 | 초박형 실리콘 기판 및 이의 제조방법 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2018-0053127 |
| 출원일 | 2018-05-09 |
| 등록번호 | 2043059 |
| 등록일 | 2019-11-05 |
| 대표발명자 | 전기화학연구실 임재홍 |
| 초록 | 본 발명은 실리콘 기판 표면; 및 상기 실리콘 기판 표면의 측면에 위치하는 실리콘 기판 측면을 포함하고, 상기 실리콘 기판은 복수개의 열화부를 포함하며, 상기 열화부는, 상기 실리콘 기판 측면의 최외곽 면으로부터 시작하여, 상기 실리콘 기판의 길이 방향으로 일정 길이를 갖는 지점까지 형성되며, 상기 열화부는, 상기 실리콘 기판의 표면 영역에 형성되는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판에 관한 것으로, 초박형 실리콘 기판을 제조함에 있어서, 박리가 진행될 수 있는 열화부를 형성함으로써, 임계 스트레스층에 의한 박리 공정의 효율을 더욱 향상시킬 수 있다. |
| 발명명칭 | 초박형 실리콘 기판 및 이의 제조방법 |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
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| 첨부파일 |
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