| 초록 |
본 발명은 전극봉(122)이 삽입된 아크발생부(120)에 원료봉(124)을 연속적으로 장입하는 원료봉장입단계(S1)와; 상기 원료봉장입단계(S1)를 거친 조업챔버(100)와 나노분말을 포집하는 포집챔버(200) 내부를 진공상태로 만드는 진공형성단계(S2)와; 상기 진공형성단계(S2)를 거쳐 진공 형성된 상기 조업챔버(100)에 아르곤(Ar)을 주입하여 플라즈마 아크(Plasma Arc)를 발생시키는 아크발생단계(S3)와; 상기 아크발생단계(S3)에서 생성되는 금속증기의 발생량을 증가시키고, 생성된 금속증기를 포집챔버(200)로 이동시키기 위해 가스(Gas)를 주입하는 가스주입단계(S4)와; 상기 가스주입단계(S4)를 거친 금속증기를 상기 조업챔버(100)에서 포집챔버(200)로 연속적으로 순환시키는 가스순환단계(S5)와; 상기 가스순환단계(S5)를 거친 금속증기가 나노분말로 응축되어 상기 포집챔버(200)에서 포집되는 나노분말포집단계(S6)와; 상기 나노분말포집단계(S6)에서 포집된 나노분말의 산화를 방지하기 위하여 후처리챔버(300)에서 후처리하는 후처리단계(S7)를 포함하여 구성된다. 이와 같은 본 발명에 의하면, 연속적으로 다양한 금속, 세라믹, 복합체 나노분말을 제조할 수 있으며, 대량생산할 수 있는 이점이 있다. 나노분말, 플라즈마 아크방전, 원료봉, 전극봉, 가스순환, 연속 |
