| 특허명 | 폴리머층을 식각 보호층으로 이용한 돌기 패턴의 형성 방법 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2010-0124824 |
| 출원일 | 2010-12-08 |
| 등록번호 | 1235834 |
| 등록일 | 2013-02-15 |
| 대표발명자 | 하이브리드코팅연구그 나종주 |
| 초록 | 폴리머층을 식각 보호층으로 이용하는 돌기 패턴의 형성 방법이 제공된다. 기판 상에 폴리머층을 형성한다. 상기 폴리머층을 플라즈마 처리하여, 상기 폴리머층을 관통하는 복수의 홀들을 형성한다. 상기 폴리머층을 식각 보호층으로 이용하여, 상기 복수의 홀들로부터 노출된 상기 기판의 표면을 선택적으로 식각하여, 상기 기판 상에 돌기 패턴을 형성한다. |
| 발명명칭 | 폴리머층을 식각 보호층으로 이용한 돌기 패턴의 형성 방법 |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
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| 첨부파일 |
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