| 특허명 | 나노 딤플 패턴의 형성방법 및 나노 구조물 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2011-0013045 |
| 출원일 | 2011-02-15 |
| 등록번호 | 1293205 |
| 등록일 | 2013-07-30 |
| 대표발명자 | 융합공정연구본부 나종주 |
| 초록 | 마스크층을 식각 보호층으로 이용하는 나노 딤플 패턴의 형성방법 및 이로부터 제조된 나노 구조물이 제공된다. 일 실시예에 따르면, 기판 상에 폴리머 입자들을 갖는 마스크층을 형성한다. 상기 마스크층은 상기 폴리머 입자들 사이로 상기 기판을 노출하는 개구를 갖는다. 상기 마스크층을 식각 보호층으로 이용하여 상기 개구로부터 노출된 상기 기판의 표면을 선택적으로 식각하여, 상기 기판 상에 나노 딤플 패턴을 형성한다. |
| 발명명칭 | 나노 딤플 패턴의 형성방법 및 나노 구조물 |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
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| 첨부파일 |
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