| 특허명 | 플라즈마 발생장치 및 기판의 플라즈마 처리방법 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2011-0079921 |
| 출원일 | 2011-08-11 |
| 등록번호 | 1241951 |
| 등록일 | 2013-03-05 |
| 대표발명자 | 기능박막연구그룹 남기석 |
| 초록 | 본 발명은 플라즈마가 아크로 전이되는 현상을 억제하여 대기압 근처에서도 안정적이면서도 고밀도 플라즈마를 발생시키기 위해, 기판을 안착시키기 위한 판상형 하부전극; 및 상기 판상형 하부전극 상의 원통형 회전 전극을 포함하고, 상기 원통형 회전 전극은, 전원부에 연결되고, 그 외주면 상에 복수의 캐필러리부들을 포함하는 도전성 몸체; 및 상기 복수의 캐필러리부들의 저면부를 노출하도록 그 외의 부분은 절연체 또는 유전체로 차폐하는 것을 포함하는, 플라즈마 발생장치를 제공한다. |
| 발명명칭 | 플라즈마 발생장치 및 기판의 플라즈마 처리방법 |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
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| 첨부파일 |
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