| 특허명 | 다공성 세라믹 표면을 밀봉하는 치밀한 희토류 금속 산화물 코팅막 및 이의 제조방법 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2011-0089675 |
| 출원일 | 2011-09-05 |
| 등록번호 | 1108692 |
| 등록일 | 2012-01-16 |
| 대표발명자 | 기능재료연구본부 박동수 |
| 초록 | 본 발명은 다공성 세라믹 표면을 밀봉하는 치밀한 희토류 금속 산화물 코팅막 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 상세하게는 평균 표면 거칠기가 0.4 내지 2.3 μm인 다공성 세라믹층을 포함하는 기판의 다공성 세라믹층 상에 형성된 희토류 금속 산화물 코팅막을 제공한다. 본 발명에 따른 다공성 세라믹 표면을 밀봉하는 치밀한 희토류 금속 산화물 코팅막 및 이의 제조방법은 충분한 두께의 다공성 세라믹 코팅층에 의해 내전압 특성 확보 및 치밀한 희토류 금속 산화물 코팅막에 의한 플라즈마 내식성 확보가 동시에 이루어질 수 있는 효과가 있어, 반도체 식각장비를 포함하는 다양한 반도체 장비용 부품에 적용될 수 있다 |
| 발명명칭 | 다공성 세라믹 표면을 밀봉하는 치밀한 희토류 금속 산화물 코팅막 및 이의 제조방법 |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
| 도면 | 다운로드 |
| 첨부파일 |
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