| 특허명 | 직접 침탄법에 의한 금속탄화물의 제조 방법 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2011-0100602 |
| 출원일 | 2011-10-04 |
| 등록번호 | 1186495 |
| 등록일 | 2012-09-21 |
| 대표발명자 | 분말기술연구그룹 하국현 |
| 초록 | 본 발명에 의한 직접 침탄법에 의한 금속탄화물의 제조 방법은, 금속성분을 포함한 물질과, 상기 금속성분을 포함한 물질에 포함되지 않은 금속성분을 포함한 금속염 및 Carbon Colloid를 준비하는 재료준비단계와, 금속성분을 포함한 물질과, 상기 금속성분을 포함한 물질에 포함되지 않은 금속성분을 포함한 금속염 및 Carbon Colloid를 혼합 및 분산하는 재료혼합단계, 혼합 및 분산된 재료를 건조하는 건조단계와, 건조된 분말을 열처리하여 금속탄화물을 제조하는 열처리단계로 이루어지는 것을 특징으로 한다. |
| 발명명칭 | 직접 침탄법에 의한 금속탄화물의 제조 방법 |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
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| 첨부파일 |
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