| 특허명 | 나노 돌기 패턴의 형성 방법 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2011-0121653 |
| 출원일 | 2011-11-21 |
| 등록번호 | 1334898 |
| 등록일 | 2013-11-25 |
| 대표발명자 | 기능박막연구그룹 나종주 |
| 초록 | 본 발명은 열에 강하고 내구성이 우수하며 경제적으로 제조할 수 있는 나노 패턴의 형성을 위하여, 글래스 기판 상에 실리카 비드(bead)들을 포함하는 실리카 분산용액을 코팅하여 실리카 비드층을 형성하는 단계; 및 상기 실리카 비드층의 토폴로지를 이용하여 상기 실리카 비드층 및 상기 글래스 기판을 순차적으로 식각함으로써, 상기 글래스 기판 상에 나노 돌기 패턴을 형성하는 단계;를 포함하는, 나노 돌기 패턴의 형성 방법이 제공된다. |
| 발명명칭 | 나노 돌기 패턴의 형성 방법 |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
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| 첨부파일 |
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