| 특허명 | 상온진공과립분사 공정을 위한 취성재료 과립 및 이를 이용한 코팅층의 형성방법 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2011-0130294 |
| 출원일 | 2011-12-07 |
| 등록번호 | 1380836 |
| 등록일 | 2014-03-27 |
| 대표발명자 | 기능재료연구본부 박동수 |
| 초록 | 본 발명은 상온진공과립분사 공정을 위한 취성재료 과립 및 이를 이용한 코팅층의 형성방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 0.1 내지 6 ㎛ 크기의 미립자 분말이 과립화되어 상온진공과립분사 공정을 통해 코팅층을 형성할 수 있는 것을 특징으로 하는 취성재료 과립 및 이를 이용한 코팅층의 형성방법을 제공한다. 본 발명에 따른 취성재료 과립은 상온진공과립분사 공정을 통해 과립을 공급하며 연속적으로 코팅공정을 수행할 수 있고, 노즐을 통해 분사되는 과립의 질량이 상대적으로 큼에 따라 높은 운동에너지를 나타내어 낮은 가스 유량에서도 코팅층을 제조할 수 있으며, 성막 속도를 증가시킬 수 있어 세라믹 코팅층 제조에 유용하게 사용할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 코팅층 형성방법을 통해 10% 이하의 기공율을 나타내며, 균열이나 거대 기공 또는 층상구조와 같은 불균일성이 없는 균일한 미세구조를 가진 코팅층을 제조할 수 있다. |
| 발명명칭 | 상온진공과립분사 공정을 위한 취성재료 과립 및 이를 이용한 코팅층의 형성방법 |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
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| 첨부파일 |
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