보유특허

특허명 콜로이드 입자 안정화 방식을 이용하여 이중 기공 구조를 가지는 세라믹 소재 및 이의 제조방법
출원등록국 한국
출원번호 2012-0085600
출원일 2012-08-06
등록번호 1401081
등록일 2014-05-22
대표발명자 엔지니어링세라믹연구실 하장훈
초록 본 발명은 세라믹 소재 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 콜로이드 입자 안정화 방식을 이용하여 제조되는 세라믹 소재에 있어서, 상기 세라믹 소재의 원료분말은 개기공 구조 또는 불규칙한 형상을 가지는 원료분말로 형성되고, 상기 원료분말이 계면활성제와 혼합된 이후 건조 및 소결되어 폐기공인 1차 기공과 개기공인 2차 기공이 형성되며, 상기 원료분말은 규조토(Diatomite), 질화알루미늄(AlN), 질화규소(Si₃N₄), 탄화규소(SiC), 탄화지르코늄(ZrC), 탄화텅스텐(WC), 코디어라이트(Cordierite), 뮬라이트(Mullite), 지르코니아(ZrO₂) 중 어느 하나의 단일분말 또는 하나 이상의 복합분말로 형성된다. 또한, 본 발명에 따른 세라믹 소재의 제조방법은 원료분말과 계면활성제를 준비하는 재료준비단계와, 상기 재료준비단계에서 준비된 원료분말과 물을 혼합하여 혼합물을 형성하고, 계면활성제를 첨가한 이후 콜로이드 입자 안정화 폼을 제조하는 세라믹폼 제조단계 및 상기 세라믹폼 제조단계에서 제조된 세라믹 폼을 건조하는 건조단계 및 건조된 세라믹 폼을 소결하는 소결단계가 포함되며, 상기 재료준비단계에서는 원료분말로 규조토(Diatomite), 질화알루미늄(AlN), 질화규소(Si₃N₄), 탄화규소(SiC), 탄화지르코늄(ZrC), 탄화텅스텐(WC), 코디어라이트(Cordier...(이하생략)
발명명칭 콜로이드 입자 안정화 방식을 이용하여 이중 기공 구조를 가지는 세라믹 소재 및 이의 제조방법
출원인 한국기계연구원
도면 다운로드
첨부파일 키프리스 검색