| 특허명 | 가스 공급 유닛 및 이를 갖는 이온 빔 소스 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2012-0098798 |
| 출원일 | 2012-09-06 |
| 등록번호 | 1404916 |
| 등록일 | 2014-05-30 |
| 대표발명자 | 플라즈마코팅연구실 김도근 |
| 초록 | 이온 빔 소스의 가스 공급 유닛은 이온 빔 생성 유닛과 결합하며 이온 빔 생성 유닛의 가스 공급홀들과 연결되는 내부 공간을 형성하는 챔버와, 챔버의 외부에서 챔버를 관통하며 챔버의 내부 공간으로 가스를 공급하는 가스 공급관 및 챔버의 내부 공간에 가스 공급홀들을 커버하도록 배치되며, 내부 공간의 가스를 가스 공급홀들로 균일하게 공급하기 위한 가스 분배판을 포함한다. 가스 공급 유닛이 이온 빔 생성 유닛으로 가스를 균일하게 공급하므로 이온 빔 소스가 이온 빔을 균일하게 생성할 수 있다. |
| 발명명칭 | 가스 공급 유닛 및 이를 갖는 이온 빔 소스 |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
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| 첨부파일 |
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