| 특허명 | 이온 빔 소스 및 이를 갖는 증착 장치 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2012-0098800 |
| 출원일 | 2012-09-06 |
| 등록번호 | 1447779 |
| 등록일 | 2014-09-29 |
| 대표발명자 | 플라즈마코팅연구실 김도근 |
| 초록 | 이온 빔 소스는 상면에 방전 공간을 가지며, 내부에 상기 방전 공간으로 가스를 공급하기 위한 상기 가스 공급홀들을 갖는 몸체와, 상기 몸체의 상면에 상기 방전 공간을 노출하도록 구비되며, 전원의 인가없이 부유(floating)되는 음극 및 상기 방전 공간의 내부에 상기 음극과 이격되도록 구비되며, 외부로부터 인가되는 구동 전원과 연동하여 상기 음극과 사이에서 전기장을 형성하여 상기 가스를 이온화하는 양극을 포함할 수 있다. 이온 빔 소스는 전극에 증착되는 물질에 의한 아킹 발생을 최소화 할 수 있다. |
| 발명명칭 | 이온 빔 소스 및 이를 갖는 증착 장치 |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
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| 첨부파일 |
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