| 특허명 | 고온의 열원을 이용한 ５００ ㎚-１0 ㎛ 크기의 구형 분말의 제조방법 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2012-0117181 |
| 출원일 | 2012-10-22 |
| 등록번호 | 1400901 |
| 등록일 | 2014-05-22 |
| 대표발명자 | 분말기술연구실 양상선 |
| 초록 | 본 발명은 구형 분말의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 제조방법은 원료분말의 융점-비점 사이의 온도가 형성되는 고온의 열원 내에 원료분말을 주입함으로써, 증발되는 원료분말이 없어 원료의 소실이 거의 없고, 형성되는 분말의 크기가 500 nm-10 ㎛의 크기이고 형태가 구형으로 균일할 뿐만 아니라, 금속의 합금 및 금속/세라믹 복합물질을 원료분말로 사용할 경우에 복합재료 원래의 조성을 그대로 유지할 수 있으므로, 500 nm-10 ㎛ 크기의 구형 분말의 제조에 유용할 수 있다. |
| 발명명칭 | 고온의 열원을 이용한 500 ㎚-10 ㎛ 크기의 구형 분말의 제조방법 |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
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| 첨부파일 |
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