| 특허명 | 투명 전도성 기판 및 이의 제조 방법 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2012-0152819 |
| 출원일 | 2012-12-26 |
| 등록번호 | 1492240 |
| 등록일 | 2015-02-04 |
| 대표발명자 | 플라즈마코팅연구실 이건환 |
| 초록 | 본 발명에 의한 투명전도성기판은, 투명 폴리머 기판으로 이루어진 투명모재와; 상기 투명모재 일면에 PVD법(Physical Vapor Deposition ; 물리증착법)으로 투명하게 형성된 제1박막과, 상기 제1박막 일측에 PVD법(Physical Vapor Deposition ; 물리증착법)으로 형성되고 금속 및 금속산화물로 이루어진 제2박막과, 상기 제2박막 일측에 PVD법(Physical Vapor Deposition ; 물리증착법)으로 투명하게 형성된 제3박막으로 이루어진 전도성박막을 포함하여 구성됨을 특징으로 한다. |
| 발명명칭 | 투명전도성기판 |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
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| 첨부파일 |
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