| 특허명 | 이온 빔 소스 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2012-0145139 |
| 출원일 | 2012-12-13 |
| 등록번호 | 1382704 |
| 등록일 | 2014-04-01 |
| 대표발명자 | 플라즈마코팅연구실 김도근 |
| 초록 | 이온 빔 소스는 상면에 방전 공간을 가지며, 내부에 상기 방전 공간으로 가스를 공급하기 위한 가스 공급홀을 갖는 몸체와, 상기 몸체의 상면에 상기 방전 공간을 노출하도록 구비되고, 상기 몸체와의 정렬을 위해 하부면에 몸체의 상면과 대응하는 형태의 체결홈을 갖는 음극 및 상기 방전 공간의 내부에 상기 음극과 이격되도록 구비되며, 상기 음극과의 사이에 고전압을 발생시켜 상기 가스를 이온화하는 양극을 포함할 수 있다. 음극을 몸체에 정확하게 배치할 수 있으므로, 이온 빔 소스가 이온을 균일하게 발생할 수 있다. |
| 발명명칭 | 이온 빔 소스 |
| 출원인 | 한국기계연구원|포스코홀딩스 주식회사 |
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