| 특허명 | 이온 빔 소스 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2013-0063840 |
| 출원일 | 2013-06-04 |
| 등록번호 | 1495424 |
| 등록일 | 2015-02-13 |
| 대표발명자 | 플라즈마코팅연구실 이승훈 |
| 초록 | 이온 빔 소스는 내부 공간을 가지며 상면이 개방되고, 내부에 내부 공간으로 가스를 공급하기 위한 가스 공급홀들을 갖는 몸체와, 몸체의 상면에 구비되며, 내부 공간을 노출하는 개구를 갖는 음극 및 몸체의 내부 공간에 음극과 이격되도록 구비되며, 음극과의 간격을 넓히기 위해 개구와 대응하는 홈을 가지고, 외부로부터 인가되는 전원과 연동하여 음극과 사이에서 전기장을 형성하여 가스를 이온화하는 양극을 포함할 수 있다. 따라서, 이온 빔 소스에서 이온화 가스의 에너지를 저하시킬 수 있다. |
| 발명명칭 | 이온 빔 소스 |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
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| 첨부파일 |
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