| 초록 |
본 발명은 내부에 발열체가 매립 설치되어 있으며 Ni-Fe-Co 합금으로 이루어진 금속 모재 및 상기 금속 모재의 적어도 일측면에 형성된 세라믹층을 포함하는 반도체 제조공정용 가열장치의 히팅 플레이트 및 이를 포함하는 반도체 제조공정용 가열장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 반도체 제조공정용 히팅 플레이트는 Ni-Fe-Co 합금으로 이루어진 금속 모재에 가열과 냉각이 반복되는 열충격이 가해져도 AlN 등으로 이루어진 세라믹층과의 정합성을 유지하는 우수한 내열충격성을 나타내며, 세라믹층을 구비함으로써 내화학성, 내마모성 등이 우수하여 금속 모재의 손상을 방지할 수 있다. 따라서, 상기 히팅 플레이트를 포함하는 반도체 제조공정용 가열장치는 식각공정, 증착공정 등을 수행함에 있어서 안정적으로 기판 가열을 수행할 수 있으며, 종래 질화알루미늄(AlN)를 주성분으로 하여 이루어진 반도체 제조공정용 가열 장치의 히팅 플레이트에 비해 경제적이고, 세라믹층이 AlN과 같은 고열전도성 소재로 이루어질 경우 우수한 온도 균일성을 달성할 수 있으며, 작은 전력으로 기판을 원하는 온도로 신속히 가열할 수 있다. |
