| 특허명 | 회로기판 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2016-0004150 |
| 출원일 | 2016-01-13 |
| 등록번호 | 2315634 |
| 등록일 | 2021-10-15 |
| 대표발명자 | 전기화학연구실 김만 |
| 초록 | 본 발명은 회로부 영역과 단자부 영역을 포함하는 베이스 기판; 상기 베이스 기판의 상부에 형성되는 회로 패턴; 및 상기 회로 패턴의 상부에 형성되는 저융점 금속층을 포함하는 회로 기판에 관한 것으로, 포토레지스트 공정을 배제하여 제조시간과 제조단가를 낮출 수 있는 회로기판을 제조할 수 있다. |
| 발명명칭 | 회로 기판 |
| 출원인 | 삼원액트 주식회사|한국재료연구원 |
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| 첨부파일 |
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