| 특허명 | 이중층 금속 박막 기판 및 이의 제조방법 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2016-0110249 |
| 출원일 | 2016-08-29 |
| 등록번호 | 10-2558253 |
| 등록일 | 2023-07-18 |
| 대표발명자 | 소자기능박막연구실 윤정흠 |
| 초록 | 본 발명은 이중층 금속 박막 기판 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 상세하게는 기판; 및 상기 기판 상에 형성되며 금속으로 구성되는 금속 박막;을 포함하되, 넥 그로스(neck growth) 하는 금속 클러스터들이 아일랜드형으로 형성되고 기판 표면에서 연속 박막을 형성하지 않는 층인 아일랜드형 금속중간층 상에 연속 금속 박막이 형성된 구조를 가지는 이중층 금속 박막 기판에 관한 것이다. 본 발명에 의한 이중층 금속 박막 기판은 성장초기부터 2차원 연속 금속 박막으로 성장된 아일랜드형 금속중간층 상에 연속 금속 박막을 형성하여 광투과율 및 전도성이 우수한 금속 박막을 제공하는 효과가 있다. |
| 발명명칭 | 이중층 금속 박막 기판 및 이의 제조방법 |
| 출원인 | 한국재료연구원 |
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| 첨부파일 |
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