| 특허명 | 물질막 형성 방법 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2018-0024626 |
| 출원일 | 2018-02-28 |
| 등록번호 | 1850965 |
| 등록일 | 2018-04-16 |
| 대표발명자 | 소자기능박막연구실 권정대 |
| 초록 | 본 발명은 폴리머 기판 상에 버퍼층을 형성하는 단계, 상기 버퍼층 상에 몰리브덴 또는 산화몰리브덴을 함유하는 예비층을 형성하는 단계 및 황화수소를 함유하는 분위기에서 상기 예비층에 대하여 플라즈마 처리를 수행하여 이황화몰리브덴층을 형성하는 단계를 포함하는 물질막 형성 방법을 제공한다. |
| 발명명칭 | 물질막 형성 방법 |
| 출원인 | 한국기계연구원 |
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| 첨부파일 |
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