| 특허명 | 후방산란전자회절도형의 양호도 지표를 평가하는 방법 및 이를 실행하기 위한 프로그램 |
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| 출원등록국 | 한국 |
| 출원번호 | 2020-0151858 |
| 출원일 | 2020-11-13 |
| 등록번호 | 10-2546768 |
| 등록일 | 2023-06-19 |
| 대표발명자 | 철강재료연구실 강전연 |
| 초록 | 본 발명에 따른 EBSD 선별적 보정 방법은 (a) 후방산란전자회절도형(electron backscatter diffraction pattern, 이하 EBSP라 함)의 전처리(preprocessing) 단계; (b) EBSP에서 회절 띠(diffraction band)를 나타내는 영상 변환(image transformation) 단계; (c) 변환된 영상(이미지 또는 image라 한다)에서의 편향(bias) 제거 단계; (d) 최종 변환 영상에서의 고점 검출 단계; (e) EBSP 양호도 지표 결정 인자 도출 단계; (f) EBSP 양호도 지표 계산 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다. |
| 발명명칭 | 후방산란전자회절도형의 양호도 지표를 평가하는 방법 및 이를 실행하기 위한 프로그램이 저장된 기록 매체 |
| 출원인 | 한국재료연구원 |
| 도면 | 다운로드 |
| 첨부파일 |
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